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10026-04-7 / 四氯化硅的制备纯化方法及应用

背景及概述[2]

四氯化硅又称氯化硅,无色透明、低粘度液体有可燃性和窒息性。因本品硅氯键有很强的极性,与亲核试剂可发生激烈反应,并放出氯化氢气体。例如,与水接触就剧烈反应,放出大量热,水解生成硅酸,放出氯化氢而产生烟雾;与氨反应生成硅烷基胺;与乙醇或苯酚反应生成硅酸酯;在高温(1000℃) 下可被氢气还原,产生元素硅;与金属氢化物,如氢化锂、氢化钠、氢化铝锂及硼氢化物等还原剂反应,可生成硅烷;与格氏试剂反应,也以生成四烃基硅烷或部分烃基硅烷;在高温下也能与氧反应,但在低温下对氧是稳定的。刺激皮肤、呼吸器官、粘膜。

四氯化硅的制备纯化方法及应用

制备[2]

①碳化硅的直接氯化。

SiC+2Cl2→[1]+C

②二氧化硅与炭一起氯化,可制得[1]。

SiO2+2C+2Cl2→[1]+2CO

③工业用硅、硅铁、硅钙等在400℃时氯化,均可制得[1]。

Si+2Cl2→[1]

Fe-Si+2Cl2→[1]+Fe

Ca-Si+2Cl2→[1]+Ca

④制造高纯硅时的副产物。从粗硅制备半导体用高纯硅时,采用盐酸与硅反应,先制成三 氯硅烷(SiHCl3),在三氯硅烷精馏时,用氢还原,可制得多晶硅,在此过程中副产[1]。

2HSiCl3→[1]+Si+2HCl

⑤从钛矿制金属钛时,矿石中的钛生成 TiCl4,硅石中的硅则生成SiCl4,再进行精制,可获得[1]。

⑥从锆矿制金属锆或四氯化锆时,也可副产[1]。

纯化方法[1]

制备光纤用超纯四氯化硅的方法主要包括精馏法、吸收法、部分水解法、络合法、光氯化法等。其中精馏塔和吸收法属于物理法,仅可制备一定纯度的四氯化硅,在制备光纤用超纯四氯化硅时存在问题;部分水解法、络合法和光氯化法属于化学法,通过反应去除四氯化硅中的杂质,可以用于制备光纤用超纯四氯化硅,但因部分水解法和络合法具有操作困难和无法大规模生产的缺点,其应用受到限制,而光氯化法不存在上述问题。

目前国内在大规模制备光纤用超纯四氯化硅方面还处于空白。北京有色研究总院公开了一种精馏式光氯化反应装置(专利申请号:200910260296.X),此装置仅适用于实验室研究,无法实现连续生产和有效工业放大。武汉新硅科技有限公司公开了一种光纤用高纯四氯化硅的连续精馏方法,虽解决了连续和大规模生产的问题,但四氯化硅的纯度无法达到超纯要求。因此,现有的纯化四氯化硅的技术还有待进一步研究。

CN201410299615.9提出一种纯化四氯化硅的方法,该方法可以显著提高四氯化硅的纯度,从而得到光纤用级别的超纯四氯化硅。在本发明实施例的一个方面,本发明提出了一种纯化四氯化硅的方法,包括:

(1)利用粗四氯化硅吸收氯气,以便得到吸收饱和的粗四氯化硅,其中,所述粗四氯化硅含有三氯氢硅;

(2)将步骤(1)得到的所述吸收饱和的粗四氯化硅进行光氯化反应,以便得到光氯化反应产物,其中,所述光氯化反应使所述三氯氢硅转化为四氯化硅;

(3)采用氮气对步骤(2)得到的所述光氯化反应产物进行气提处理,以便分离未反应的氯气,并且得到气提后四氯化硅;

(4)将步骤(3)得到的所述气提后四氯化硅进行第一精馏处理,以便得到塔顶尾气 和经过第一精馏处理的四氯化硅;以及(5)将步骤(4)得到的所述经过第一精馏处理的四氯化硅进行第二精馏处理,以便得到塔釜液和经过纯化的四氯化硅。

根据本发明实施例的纯化四氯化硅的方法通过将吸收、光氯化反应、气提和精馏处理相结合,并且保证在四氯化硅吸收氯气饱和的情况下进行光氯化反应,可以显著提高光氯化反应效率,进而可以制备得到光纤用级别的四氯化硅,从而解决了光氯化反应效率低和无法大规模连续生产的问题。

应用 [2]

用于制造高分散性硅胶,这是一种超微细的无水二氧化硅,具有增粘性、触变性、流动性、增强性等优点,可用于涂料、印刷油墨、漆、合成树脂、橡胶、医药、润滑脂、蜡及饲料等方面;也用作军事用烟雾毒气;也是制造硅酸乙酯(用作防锈涂料的展色剂、砂型粘合剂、耐火涂膜材料) 的原料;制造半导体材料高纯度特殊气体;高纯度的本品可用于特种玻璃及光导纤维等。

主要参考资料

[1] CN201410299615.9 纯化四氯化硅的方法

[2]实用精细化工辞典