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米吡氯铵可用于制备一种能够抑制半导体装置、微机械这样的由氧化硅形成的微细结构体的图案倒塌的处理液。
米吡氯铵应用举例如下：
一种用于抑制微细结构体的图案倒塌的处理液，其是用于抑制由氧化硅形成的微细结构体的图案倒塌的处理液，所述处理液含有选自具有碳原子数12、碳原子数14或碳原子数16的烷基的咪唑鎓卤化物、具有碳原子数14或碳原子数16的烷基的吡啶鎓卤化物和具有碳原子数16或碳原子数18的烷基的卤化铵中的至少一种及水。其中，碳原子数12的烷基为十二烷基、碳原子数14的烷基为十四烷基、碳原子数16的烷基为十六烷基、碳原子数18的烷基为十八烷基；咪唑鎓卤化物为选自1‑十二烷基‑3‑甲基氯化咪唑鎓、1‑十四烷基‑3‑甲基氯化咪唑鎓和1‑十六烷基‑3‑甲基氯化咪唑鎓中的1种以上。吡啶鎓卤化物为选自十四烷基氯化吡啶鎓、十六烷基氯化吡啶鎓、1‑十四烷基‑4‑甲基氯化吡啶鎓（米吡氯铵）1‑十六烷基‑4‑甲基氯化吡啶鎓中的1种以上；卤化铵为选自十六烷基三甲基氯化铵、十八烷基三甲基氯化铵、苄基二甲基十六烷基氯化铵和苄基二甲基十八烷基氯化铵中的1种以上；咪唑鎓卤化物、吡啶鎓卤化物和卤化铵的含量为10ppm～10%。
制造方法，在湿式蚀刻或干式蚀刻之后的洗涤工序中，使用含有选自具有碳原子数12、碳原子数14或碳原子数16的烷基的咪唑鎓卤化物、具有碳原子数14或碳原子数16的烷基的吡啶鎓卤化物和具有碳原子数16或碳原子数18的烷基的卤化铵中的至少一种及水的用于抑制微细结构体的图案倒塌的处理液。其中由氧化硅形成的微细结构体为半导体装置或微机械。